半导体

合成letou|唯一授权锭



名称:合成letou|唯一授权锭
类别:合成letou|唯一授权

·产品描述

合成letou|唯一授权是以四氯化硅为原料,经过氢氧气高温燃烧后而沉积的高纯二氧化硅,具有高纯度、低热膨胀系数、高透过率、耐辐照等优良特性。

用途:
·半导体/TFT-LCD用光掩膜letou|唯一授权基板
·光学用透镜及反射镜、大口径反射光
·高能激光
·高精密光学、标准镜棱镜
·激光陀螺
·光刻机镜头

合成letou|唯一授权锭

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